特許法等の一部改正が閣議決定される

特許法の一部改正が閣議決定されました。以下、経済産業省のＨＰである

https://www.meti.go.jp/press/2018/03/20190301004/20190301004.html

からの引用となります。

(1)中立な技術専門家が現地調査を行う制度（査証）の創設 特許権の侵害の可能性がある場合、中立な技術専門家が、被疑侵害者の工場等に立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度を創設します。

(2)損害賠償額算定方法の見直し ・侵害者が販売した数量のうち、特許権者の生産能力等を超えるとして賠償が否定されていた部分について、侵害者にライセンスしたとみなして、損害賠償を請求できることとします。 ・ライセンス料相当額による損害賠償額の算定に当たり、特許権侵害があったことを前提として交渉した場合に決まるであろう額を考慮できる旨を明記します。 ※(2)については実用新案法、意匠法及び商標法において同旨の改正を実施します。

意匠法の一部改正

(1)保護対象の拡充 物品に記録・表示されていない画像や、建築物の外観・内装のデザインを、新たに意匠法の保護対象とします。

(2)関連意匠制度※の見直し ※自己の出願した意匠又は自己の登録意匠（本意匠）に類似する意匠の登録を認める制度 ・関連意匠の出願可能期間を、本意匠の登録の公表日まで（8か月程度）から、本意匠の出願日から10年以内までに延長します。 ・関連意匠にのみ類似する意匠の登録を認めます。

(3)意匠権の存続期間の変更 「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更します。

(4)意匠登録出願手続の簡素化 ・複数の意匠の一括出願を認めます。 ・物品の名称を柔軟に記載できることとするため、物品の区分を廃止します。

(5)間接侵害※規定の拡充 ※侵害を誘発する蓋然性が極めて高い予備的・幇助的行為を侵害とみなす制度 「その物品等がその意匠の実施に用いられることを知っていること」等の主観的要素を規定することにより、取り締まりを回避する目的で侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まれるようにします。

その他

公益団体等（自治体、大学等）が自身を表示する著名な商標権のライセンスを認める等の措置を講じます。

詳細な情報は、以下のリンクから参照ください。

https://www.meti.go.jp/press/2018/03/20190301004/20190301004-1.pdf